高密度透明闪烁薄膜的研究对于发展高分辨率X射线CCD具有十分重要的意义。运用溶胶-凝胶薄膜制备与强化处理技术,开展Eu3+、Tb3+激活GdTaO4新型高密度透明闪烁薄膜的研究。通过制备工艺、K+、Zn2+等微量离子掺杂、微结构调控与分析、光谱和发光动力学等理论和实验的研究,获得制备这一新型闪烁薄膜的优化工艺条件,认识薄膜微结构、K+、Zn2+微量离子掺杂等对离子间能量传递过程和Eu3+、Tb3+激活离子发光性能影响的作用机理,提出提高该薄膜闪烁性能的途径,为获得高性能、具有实用价值的Eu3+、Tb3+激活GdTaO4新型高密度透明闪烁薄膜奠定坚实的理论和实验基础。克服目前荧光粉颗粒对提高X射线CCD空间分辨率的制约,推动我国高空间分辨率X射线CCD产业的发展。
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数据更新时间:2023-05-31
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