三价铬电沉积过程机理的研究

基本信息
批准号:59374162
项目类别:面上项目
资助金额:5.00
负责人:张新
学科分类:
依托单位:北京科技大学
批准年份:1993
结题年份:1996
起止时间:1994-01-01 - 1996-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:招光文,岳宝兰
关键词:
三价铬社会效益电沉积
结项摘要

通过三价铬电沉积机理研究,解决了三阶铬不能镀厚(仅3μm)的缺陷,稳定的得到了>50μm厚,硬度Hv800左右经热处理Hv达1400-1600的非晶态壳度为镜面光的镀层。可应用在汽车拉杆、工具钢耐磨器件表面等,为提高耐蚀性研制了C-P镀层(性能和Hi-P相似自腐蚀电流在10(-6)的范围),通过悬汞。旋转圆盘电极研究了C(3+)电源沉积过程中还原机理,通过极谱等研究了C(3+)沉积过中的形态,并从动力学方面研究了获得非晶态条件,通过电化学和蒸雾实验研究了镀层耐蚀性,用X光、电镜等研究了镀层结构和性能,研究过程中去美国、日本进行技术合作、在国内外期刊、会议上发表了七篇论文、培养了博士、硕士各一名,大学生七名。进行了鉴定一项,申请专利一项。完成了预定计划,有很大的社会和经济效益。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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