利用射频等离子体辅助分子束外延和热处理技术制备p型ZnO薄膜,通过调节技术参量、改变掺杂方法和利用高压气氛热处理手段减少本征施主缺陷密度、提高并控制受主杂质的浓度和存在形态。研究掺杂方法对受主掺杂浓度和形态的影响和机制,及受主杂质的物性和存在形态对受主能级和载流子浓度的影响和机制;研究不同受主掺杂的p型ZnO的电导随时间、温度和光照变化的规律,阐明影响p型ZnO电导稳定性的物理机制。研究不同掺杂影
{{i.achievement_title}}
数据更新时间:2023-05-31
Inclusive production of fully-charmed 1+- tetraquark at B factory
汽车侧倾运动安全主动悬架LQG控制器设计方法
黑色素瘤缺乏因子2基因rs2276405和rs2793845单核苷酸多态性与1型糖尿病的关联研究
Low-Order Webpage Layout in Online Shopping Facilitates Purchase Decisions: Evidence from Event-Related Potentials
Design, synthesis and antimycobacterial activity of new benzothiazinones inspired by rifampicin/rifapentine
SSCVD制备高质量的p型ZnO薄膜
等离子体氧化Zn3V2(V:N,P,As)制备高质量p-型ZnO薄膜及ZnO p-n结发光器件研究
生长温度周期调制的MOCVD法制备p型ZnO薄膜研究
N-Ga共掺p型ZnO薄膜的制备及其性质研究