实验表明在低温下稀磁半导体GaMnAs是一个好的自旋极化注入源,因此国际上正在努力提升它的铁磁相变温度到室温,期待它能解决未来室温下半导体自旋电子器件的自旋极化注入问题。然而,室温下GaMnAs是否也具有高的自旋极化注入效率?目前尚不清楚。本项目利用全光自旋注入和检测技术研究室温下GaMnAs/GaAs异质结中电子自旋极化扩散注入效率;利用单、双光子激发的自旋波之间的量子干涉控制实现GaMnAs中自旋极化电流的产生,在GaAs层中检测自旋流的注入效率;研究自旋极化扩散和自旋极化流的注入效率随Mn掺杂浓度、GaAs的n掺杂浓度和样品的退火处理的变化,弄清GaMnAs在室温下是否能实现高效率自旋注入,对GaMnAs材料的应用前景作出评估。对GaMnAs材料和半导体自旋电子器件的发展具有重要的科学意义和应用价值。
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数据更新时间:2023-05-31
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