金刚石膜的外延生长及其应用

金刚石的应用具有广阔前景。其在微电子学上的应用，要依赖于金刚石膜的异质外延生长。这是一个困难的国际上还在解决的问题。本课题组的申请就是集中研究力量，试图在解决这一问题上做出贡献。该课题组的申请是在已有的基础上进行的。主要解决Si衬底的预处理，晶格之间的不匹配及高表面能等问题，另外也在金刚石膜的电学、磁学的应用上做工作。