亚微米级高速并行激光直写方法及工艺研究

研究基于电寻址强度型空间光调制器、利用并行激光直写微光学器件的新方法。控讨高质量灰阶图像的获取、高精缩倍率投影系统的设计、高速并行激光直写工艺、刻蚀深度和轮廓变形的精确控制等问题。以实现高性能、最小特征尺寸为亚微米级的超精细复杂结构器件的低成本、短周期生产以及激光直写设备的廉价化，对二元光学技术的推广应用具有重要意义。