复杂三维微/纳光学阵列元件的电化学刻蚀加工方法

本项目拟利用约束刻蚀剂层技术（CELT）开展石英材料（SiO2 ）表面复杂三维微/纳光学阵列元件的刻蚀加工研究，一方面探索石英刻蚀过程中的基本问题，如捕捉剂的筛选、刻蚀剂与石英反应机制、刻蚀剂层的空间分布等化学问题；另一方面发挥CELT技术适合绝缘材料复杂三维结构刻蚀的优势，力图以微/纳光学阵列元件（如微透镜阵列、微棱镜阵列）的制作为切入点，将其引向新的更为重要的应用领域。本项目可以进一步推进CELT技术的相关理论研究，有助于将该技术推广到现有电化学微/纳加工方法难以加工的新材料，从而满足微/纳系统发展中需要在极小尺度上加工日益多样的新材料的要求。