极紫外投影光刻中的光学问题研究
基本信息
批准号：69938020
项目类别：重点项目
资助金额：110.00
负责人：曹健林
学科分类：
依托单位：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
批准年份：1999
结题年份：2003
起止时间：2000-01-01 - 2003-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：金春水,王占山,马月英,林景全,高宏刚,刘毅楠,裴舒,张新,张学军
关键词：
极紫外光刻技术
结项摘要
极紫外投影光刻最有可能成为下个世纪初生产特征线宽小于0.1微米集成电路的技术，倍受?日两个集成电路生产大国的重视，近年来得到了飞速发展。本项目将在解决极紫外投影光刻中的诸多关键光学问题基础上，研制极紫外投影光刻原理装置，刻制特征线宽小于0.13微米的光刻图形，为进一步研制工业样机奠定基础。
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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