利用波长为157nm的F2准分子激光和全反射式缩倍投影光刻物镜,实现亚半微米光刻分辩率。本研究将证实通过改变成像方式及缩短曝光波长,光学光刻在下世纪初的4兆位半导体器件制造中仍具强大生命力,从而大大降低该类器件的设备投资。同时,本研究也是光学光刻领域的一个创新。
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数据更新时间:2023-05-31
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