一维纳米SiC材料制备及场致电子发射性质研究

基本信息
批准号:60476003
项目类别:面上项目
资助金额:23.00
负责人:刘技文
学科分类:
依托单位:天津理工大学
批准年份:2004
结题年份:2009
起止时间:2005-01-01 - 2009-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:赵捷,赵燕平,张广宇,支春义,于迎辉,李娟,李延辉,李昌龄
关键词:
制备纳米线场发射性质SiC
结项摘要

本项目拟在一维SiC纳米线制备基础上,制备出一维锥形SiC纳米线,发展出一维纳米结构材料制备的新方法,开展场致电子发射性质研究, 得到一维纳米结构SiC的径度、微结构、成分与场致电子发射强度之间的规律,开发新型场发射平板显示器用高性能场发射一维纳米材料。发现与量子尺寸效应相关的其他物理性质,探索新物性,以期有所创新。这是一项有着重要应用背景且很前沿的研究课题,对探索其未知的基本物理性质,开发新材料及探索在器件上的应用有着非常重要的意义。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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