Ni-Ti薄膜的记忆行为及尺寸效应研究

用磁控溅射法在不同衬底上制备出具不同厚度的Ni-Ti基薄膜，并探索出最佳晶化条件及膜厚和热处理条件对晶粒尺寸和沉淀物尺寸的影响。发现薄膜的形状记忆效应具尺寸效应。根据形状记忆合金的双程记忆效应与内应力有关，制备出不同衬底的双程膜，由于热膨胀系数不同，可在记忆合金薄膜中产生内应力而具有双程记忆效应，并根据热膨胀系数之差制备出一定厚比的双程膜而获较好的双程记忆效应。制备出相变温度在100℃以上的高温形状记忆合金，其中Ni47Ti43Hf10合金的双程记忆寿命在2万次以上，由此制备出薄膜靶材，已用磁控溅射法制备出相应的薄膜，还研究了NiTi基单晶的相变行为和界面动力学以及与界面运动有关的粘滞力和阻尼力等。还测定了反铁电体的高温SME。