弧光放电CVD金刚石薄膜强选择性生长的探索研究

基本信息
批准号:59072091
项目类别:面上项目
资助金额:5.00
负责人:张仿清
学科分类:
依托单位:兰州大学
批准年份:1990
结题年份:1993
起止时间:1991-01-01 - 1993-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:蒋翔六,王印月,张南屏,刘秀英,杨斌,谢二庆
关键词:
弧光放电CVD选择性生长金刚石薄膜
结项摘要

电阻抗层析成象(EIT)是继CT、核磷共振后又一种新颖的图象重迠技术。它基于在物体表面布置一组电极,通过注入电流(或电压)测量电压(或电流)运用数学物理反问题迭代计算方法来获得物体内部图像。它具有设备简单、成本低廉,操作方便、对人体无害等优点。可以广泛应用于工业无损探伤、生物医学诊断等领域。本项目研究了EIT的数学物理模型,设计了实现EIT的特殊算法;梯度下降记忆方向交错算法,进行了计算机与实验室模拟。计算机模拟结果表明,在测量数据含有5%平移误差和5%随机误差时,对任意的初始值选取均能很好地收敛于真实解。实验室模拟表明,在测量误差不大的情况下能显示出被测物体内部的截面图形。但边缘还不够清晰。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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