超短激光脉冲照射下半导体材料热应力响应的原子尺度模拟研究

半导体材料的高精度微纳米加工具有十分重要的科学意义和应用价值。近年来，超短激光脉冲技术被越来越多地应用于半导体器件的加工和生产。但是，目前微观尺度下超短激光脉冲与半导体材料相互作用的理论研究十分有限，导致对半导体超短激光脉冲加工技术缺乏一个全面的科学认识，进而限制了超短激光脉冲技术在半导体高精度微纳米加工中的应用。本课题拟在现有工作的基础上，将二步能量输运自恰模型与分子动力学耦合起来，发展用于研究超短激光脉冲与半导体材料相互作用的新型原子尺度模拟方法，并采用该方法参数化研究在超短激光脉冲照射下单晶硅和单晶锗材料的热应力行为，为利用超短激光脉冲对半导体材料进行高精度微纳米加工提供可靠的理论依据。