偶载场效应晶体管的工艺优化和应用验证

研究一种全新的场效应晶体管，优化其器件结构和制作工艺。通过实际应用，进一步验证其工作原理和模式。该器件具有双极晶体管的器件结构，工作在低电压、大注入模式，按场效应管原理工作。它具有场效应管得优点，不受光刻和栅氧工艺的制约，能方便地制作出极短的沟道。理论预期有极高的工作频率，并可广泛应用于高性能的模拟、数字及微波电路中。