激光快速渗硅过程与机理研究
基本信息
批准号：50474084
项目类别：联合基金项目
资助金额：26.00
负责人：刘常升
学科分类：
依托单位：东北大学
批准年份：2004
结题年份：2007
起止时间：2005-01-01 - 2007-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：张雅静,周利,刘芳,温登峰,赵越,安成强
关键词：
高硅钢制备快速渗硅化学气相沉积激光
结项摘要
以高硅钢的激光法制备为目标，建立激光快速渗硅新技术－激光化学气相沉积(LCVD)辅助渗硅法，研究快速渗硅过程与机理。在渗硅过程中引入激光和无氯硅源，籍激光加速硅源的分解并获得高化学活性的硅、改善其沉积动力学、促进硅与基体的反应与扩散；籍无氯硅源避免FeCl2生成造成Fe的损失并改善表面质量。通过激光对硅源局部热解和对基体局部加热的同步进行，把沉积与渗硅过程一体化，实现快速渗硅。对渗硅过程进行局部化
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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