非均匀薄膜体系中电流处理导致电致电阻现象的研究

基本信息
批准号:10804089
项目类别:青年科学基金项目
资助金额:24.00
负责人:王登京
学科分类:
依托单位:武汉科技大学
批准年份:2008
结题年份:2011
起止时间:2009-01-01 - 2011-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:张立刚,李云宝,王辉,汪汝武,余宏伟
关键词:
电致电阻界面结构薄膜非均匀体系
结项摘要

非均匀固态体系中存在各种界面等晶体缺陷,在界面相邻两侧由于不同材料的能带差异,往往在界面处形成界面势垒,该势垒的存在对界面处的电荷输运产生影响,从而形成特征多样的电输运特性。本项目拟研究钙钛矿结构的铁磁性锰氧化物与铁电等非均匀薄膜材料中界面对电输运的影响的一般规律 ,用强电场(强电流)等技术手段影响界面处的特性,从而改变电荷在界面处的输运特征,产生电致电阻现象,并研究界面结构/微结构,铁磁/铁电相变,薄膜中的缺陷浓度,薄膜的厚度及几何形状等因素对电致电阻效应的影响。有关研究可望加深对电致电阻现象的本质认识,找到可控电致电阻的有效途径,进而设计出具有纳米尺度类似晶体二极管电输运性能的薄膜人工结构,推动新型人工材料物理和器件的研究。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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