微接触印刷技术制备卤化银二维有序阵列

基本信息
批准号:20403026
项目类别:青年科学基金项目
资助金额:22.00
负责人:张志颖
学科分类:
依托单位:中国科学院理化技术研究所
批准年份:2004
结题年份:2007
起止时间:2005-01-01 - 2007-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:蒋仲杰,温宝妹,李广勤,崔学福,孙陆威
关键词:
光谱敏化微接触印刷二维有序阵列卤化银
结项摘要

与数字技术相结合,是卤化银成像体系发展的一个重要方向。而制备二维有序排列的卤化银阵列是现有卤化银成像技术与数字技术相结合的基础。近年来出现的软刻蚀技术中的微接触印刷是一种过程简单不需复杂设备及苛刻实验条件、模板可多次重复使用,批量制备规格一致的亚微米、纳米级颗粒二维有序阵列的有效方法。通过对模板的配合使用可以制备复杂的二维有序的颗粒阵列结构。1)利用这种微接触印刷技术将纳米级卤化银颗粒膜"印刷"在基片表面,形成卤化银颗粒组成的有序阵列。2)将具有特定官能团的分子"墨水"在基片上"印刷"出特定的由不同性质微区组成的精细图纹,利用各微区性质的差异诱导并控制卤化银颗粒有序生长,制备二维有序的卤化银单晶阵列。3)对上述卤化银颗粒有序阵列进行敏化,基于此技术试制特种光敏器件,为传统卤化银成像技术与数码技术相结合奠定理论和实验基础。上述科研思想和方法是本项目提出的,具有创新性和前瞻性。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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