多铁性薄膜及其异质结构的制备和特性研究

基本信息
批准号:50872065
项目类别:面上项目
资助金额:36.00
负责人:赵永刚
学科分类:
依托单位:清华大学
批准年份:2008
结题年份:2011
起止时间:2009-01-01 - 2011-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:常虹,时军朋,谢百韬,罗立波,杨军杰,曲天良,崔永锋
关键词:
磁阻挫诱发铁电性薄膜多铁性异质结
结项摘要

多铁性材料不仅涉及新的铁电性产生机理及磁性和铁电序间的耦合等重要的科学问题,而且具有潜在的巨大应用前景,是近年来材料、物理和器件等领域的研究热点。本课题拟研究多铁性薄膜及其异质结构的制备,探索新的单相多铁性材料和铁磁/铁电双层膜异质结,并立用多种手段研究其特性。通过这些工作得到高质量的多铁性薄膜和异质结,获得新的单相多铁性材料和铁磁/铁电双层膜异质结,认识它们的特性和其磁电耦合及调控的物理机制,促进多铁性材料的应用。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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