薄膜高频磁阻抗效应传感技术研究

通过分析与试验研究，确定用Ni81Fe19材料作为高频磁阻抗效应用软磁薄膜材料。选用Ni-Fe合金靶进行磁控射频溅射，同时研究了Ar气压、偏压、基片温度、溅射功率对磁性能的影响，制备出性能好的Ni-Fe软磁薄膜。为了使软磁薄膜具有一定的单轴各向异性，对定向磁场的方法、磁路结构进行了精心设计。除了设计磁阻抗的高频测量系统外，还对磁性薄膜图形进行了设计研究平面退磁场的影响，磁膜图形的制备采用了离子刻蚀（干法）和FeCl3溶液法，二者都能得到良好的效果，软磁薄膜的磁导率在交变磁场作用时呈复数磁导率，如果高频磁场频率低到数百MHz，虽有畴壁存在，但若材料有单轴各向异性，仍可能产生磁共振。在谐振附近，其电感和品质因数的变化，在常温下便能检测很小的被测磁场的变化，而且没有噪声。