掺杂稀土锰氧化物薄膜及其异质结的光诱导特性研究

进一步深入研究掺杂稀土锰氧化物薄膜光诱导特性的内在机制，并探索缺陷如氧缺陷、空位等对其光诱导特性的影响，特别是光引发锰氧化物相变的规律；研究掺杂稀土锰氧化物与金属、超导体形成异质结的磁控溅射、离子束溅射和脉冲激光沉积复合制备机理；在成功制备的基础上，研究多层异质结构的低温自旋电子输运性质及其光电子时间响应、光致电导率变化与光强、光子能量、偏置电流和温度等的依赖关系，特别是铁磁金属层对金属锰氧化物层的光诱导绝缘体-金属相变的影响；同时研究超导层和锰氧化物层的相互耦合作用对彼此的光诱导特性的影响。通过研究不仅可对锰氧化的光诱导特性的物理机制有进一步认识和理解，对深入认识电子关联、量子尺寸效应和层间耦合效应，为制备新原理、高性能自旋光子器件奠定基础。