纳米工艺下可制造性和成品率驱动的集成电路设计方法学研究

本课题将研究DFM/DFY和纳米工艺下集成电路设计方法学所需要的基础技术。对工艺中许多关键步骤（如光刻、掩模、刻蚀和化学机械抛光等 ）开展建模研究，分析理解其中的基础物理问题，采用不同于已有的传统工艺建模方法，建立先进的适用于设计和工艺双向优化的纳米工艺和器件模型。在全面详细的设计工艺和器件测试图形的基础上，通过实际流片测试分析得到影响成品率的各种关键因素并开发出描述工艺参数偏差和成品率关系的算法和模型。在此基础上进一步研发纳米工艺中特有的各种新物理现象的器件统计模型和高层次电路模型，从而可准确预测电路设计中电学参数和成品率之间关系并建议优化设计方案。在此基础上研究基于模型的可制造性设计和成品率驱动设计技术并开发与工艺信息反馈优化有机集成在一起的设计流程。从而为纳米工艺下集成电路设计奠定坚实基础。