铁磁多层薄膜的制备与界面状态研究

研究具有自旋极化取向的铁磁多层薄膜的制备方法；多层膜总厚控制在微米量级，单层在纳米量级。研究该薄膜中铁磁材料层与非铁磁材料层之间的界面结构、互扩散状态、界面应力及界面缺陷类型等。研究薄膜的磁畴结构，分析界面附近的原子排布、界面缺陷及密度、界面成分等。分析自旋极化取向原子的径向分布函数；研究影响薄膜电子、力学等性能的主要因素。主要研究手段为高分辨电子显微分析、会聚束衍射、微衍射、电子能量损失谱、电子全息、洛沦滋成像等技术。目标为建立多层膜显微结构与物理性能的关系。