本项目作为电子回旋共振(ECR)等离子体向商业化极紫外(EUV)光刻光源发展的一项阶段性研究,计划研制一台紧凑型全永磁ECR等离子体光源,对其在EUV光刻技术中的应用前景进行探索,具体内容为:(1)研究等离子体的各工作参数对其在13.5nm波长的极紫外辐射强度的影响,并通过优化各参数实现等离子体在13.5nm极紫外辐射的局域增强;(2)利用炉子加热、MIVOC、溅射等方法产生Sn、Li这些极紫外转化效率高的等离子体,并研究各方法的转化效率;(3)通过修正等离子体形状,优化收集光学系统来提高对等离子体发出的13.5nm极紫外辐射的收集效率;(4)以前面的研究结果为基础,提出适用于EUV光刻的全超导ECR等离子体光源的设计方案。本项目将从全新的角度对ECR等离子体的应用前景进行探索,同时对极紫外光刻(EUVL)技术的发展也具有极其重要的现实意义。
{{i.achievement_title}}
数据更新时间:2023-05-31
脉冲直流溅射Zr薄膜的微结构和应力研究
Modelling of phase transformations induced by thermo-mechanical loads considering stress-strain effects in hard milling of AISI H13 steel
激光入射角对振镜扫描激光刻蚀质量的影响
激光维持等离子体钛合金表面渗氮研究进展
基于场致激光二次谐波产生原理的纳秒脉冲电场非介入测量方法研究
高电荷态ECR等离子体极紫外和软X射线产生研究
伪火花放电等离子体极紫外光源辐射特性研究
放电等离子体极紫外光刻光源关键物理及技术问题研究
基于极紫外相干光源的分子解离动力学研究