Si3N4、Cu双相晶界调制复合强韧化TiAlN涂层机理研究

基本信息
批准号:51005111
项目类别:青年科学基金项目
资助金额:20.00
负责人:冯长杰
学科分类:
依托单位:南昌航空大学
批准年份:2010
结题年份:2013
起止时间:2011-01-01 - 2013-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:赵晴,邵志松,王春霞,朱文辉,周佳
关键词:
Cu晶界调制复合强韧化机理Si3N4TiAlN涂层
结项摘要

晶界结构及其性能对于以Ti(Al)N为基础的硬质涂层的硬度和韧性具有非常显著的影响。本项目拟采用Ti60Al30Si10-xCux靶和磁控溅射技术,制备非晶Si3N4和Cu相在TiAlN晶界分布可连续调制的纳米复合涂层,以实现TiAlN涂层强韧化并研究其机理。通过高分辨透射电镜研究该涂层晶界调制结构与特征,结合纳米压痕实验,建立涂层构成、结构、硬度、韧性之间的关系;采用自制压头对涂层试样进行压缩试验,实现不同应变硬质涂层的截面透射电镜观察,研究晶界调制结构与晶界滑移的运动特点和规律、微裂纹产生及运动的特点和规律之间的关系,并建立涂层微观应变模型,从晶界滑移和微裂纹产生及运动的微观角度,结合高温热稳定和高温磨损研究,探索Si3N4和Cu双相晶界调制复合强韧化TiAlN硬质涂层的机理。该项目对于丰富和发展硬质涂层强韧化理论、推动高档数控机床和基础切削制造技术发展,具有重要意义。

项目摘要

本项目严格按照要求进行,主要的科研内容如下:. 1)Cu含量对涂层强韧化机理研究。固定涂层中Si含量为6.5-6.9at%,研究了Cu含量为0-7.32at%时对TiAlN/Si3N4-Cu纳米复合涂层的影响。晶粒尺寸随着Cu含量的增加先减小,后增大。TEM研究发现,当涂层中Cu含量为1.4%时,在TiAlN晶粒中,可固溶部分Cu和Si, 局部晶界上有非晶铜和非晶氮化硅存在。压痕测试结果表明Cu含量为2.01at%的TiAlN/Si3N4-Cu涂层,具有最好的抗裂纹扩展的能力;随着Cu含量的增加,Cu向外扩散,涂层抗氧化性能降低;涂层在室温以磨粒磨损和黏着磨损为主。高温磨损机理以粘着磨损和氧化磨损为主,Cu的加入能降低摩擦系数,增强高温耐磨性。.2)Cu含量对涂层强韧化机理研究。Cu含量在1.10-2.81at%时,涂层中Si含量(0-5.9at%)的影响。随着Si含量的增加,涂层的表面粗糙度变小,涂层更加致密,晶粒细化;Si含量 3.39 at.% 的TiAlN/Si3N4-Cu涂层的H3/E2比值最大,韧性最好,耐磨性最好;室温时磨损机理主要是粘着磨损,高温以粘着磨损和氧化磨损为主;更高的Si含量,使涂层与基体结合力下降,耐磨性下降。.3)偏压的影响。在0V至-80V范围内,施加负偏压-20 V时,沉积速率最快,薄膜的显微硬度和弹性模量均最大,分别达到19.6 GPa和256.2 GPa,膜基结合力和耐磨性能最好。继续增加负偏压,因使其内应力增大,耐磨性能下降。.4)沉积温度的影响。沉积温度从室温提高至250oC后,涂层表面缺陷减少,致密性增强,硬度和弹性模量增加,涂层在250oC具有最好的结合力和耐磨性能。.5)还研究了TiAlN/Cu,TiAlN/Si3N4-Ag 复合涂层的微观结构与力学和摩擦学性能,N2流量对TiAlN/Si3N4的微观结构和力学性能的影响等。.成果:目前发表文章6篇,4篇文章待发表,申报发明专利3项,授权1项。培养硕士研究生2人,1人已毕业,另一人2014年6月毕业。

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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