本项研究首次给出了非晶硅网络结构光致变化的直接实验证据,从而为澄清非晶硅光致退化机制提供了重要依据,引起国际同行的关注,被邀请在MRS98大会上做特邀报告;首次提出在非晶与微晶的相变区域去寻求较稳定的非晶硅材料,并用“不间断生长/退火PECVD技术,切实实现了这一设想,改善了非晶硅薄膜和器件的稳定性。不仅光致亚稳缺陷有数量级上的降低,用以制备的单结太阳电池初始效率为8.5%时,光致退化幅度仅7%(一般20%)。这些研究工作在国内外同行中深受好评,在国际上被誉称为“北京小组”。这项研究工作,即“非晶硅的光致退化机理及其消除途径”获2000年,中国科学院自然科学二等奖。
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数据更新时间:2023-05-31
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