原子层沉积光学薄膜的生长与性能研究

基本信息
批准号:60778025
项目类别:面上项目
资助金额:33.00
负责人:章岳光
学科分类:
依托单位:浙江大学
批准年份:2007
结题年份:2010
起止时间:2008-01-01 - 2010-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:郑晓东,沈伟东,黄文标,王颖,武江
关键词:
抗激光损伤光学薄膜原子层沉积技术
结项摘要

本项目提出了用原子层沉积技术制备光学薄膜的方法。利用原子层沉积技术设计并制备出可作为光学薄膜的HfO2,SiO2,ZrO2等膜层。研究这些光学薄膜的微结构,光学特性,机械特性与制备工艺的关系。利用原子层沉积技术具有厚度控制精确,可沉积面积大,厚度均匀性好等优点,研究上述光学薄膜构成的多层光学薄膜制备的途径。利用该方法台阶复型好的优点,制备光子晶体二维波状结构薄膜。研究用原子层沉积技术制备的光学薄膜的抗激光损伤能力,探索用该方法制备抗强激光薄膜的可能性。项目的研究工作将拓宽光学薄膜的制备技术,在大面积,复杂形貌元件如光学微机电系统等方面有重要的应用前景。所以,该研究既具有强的前瞻性、创新性,又具有重要的科学意义和应用前景。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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