台阶是固体表面的最重要的缺陷之一。我们用第一原理方法,计算研究了铜和钯面上的单原子台附的乙炔活化的影响。我们的计算结果表明,铜面上的单原子台阶,对乙炔中的键长和反键轨道中的电子占有数,均无大的影响,是一种非活性台阶。而钯面上的单原子台阶,却是一种活性台阶。硅面上的单原子台阶,对氨分解同样是一种活性台阶。用我们发展的TTDMC方法计算表明,台阶对垂直方向的化学扩散系数有重大影响。国际上,我们首先用第一原理方法,运用TTDMC方法作计算模拟,对实际表面活性原子作了具体计算,对活性原子的微观机制作了更深入的探索,表明某些实际系统不适用于当前国际上的层层生长模型,而提出了我们的斥力模型。
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数据更新时间:2023-05-31
萃取过程中微观到宏观的多尺度超分子组装 --离子液体的特异性功能
非牛顿流体剪切稀化特性的分子动力学模拟
带球冠形脱空缺陷的钢管混凝土构件拉弯试验和承载力计算方法研究
基于油楠(Sindora glabra)转录组测序的SSR分子标记的开发
液体横向射流在气膜作用下的破碎过程
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含表面活性剂的清洗工艺对硅片表面的影响
超薄固体膜及表面活性剂的表面增强喇曼散射研究
固体表面活性态的计算方法及其程序设计