含表面活性剂的清洗工艺对硅片表面的影响
基本信息
批准号：60176032
项目类别：面上项目
资助金额：5.00
负责人：曹宝成
学科分类：
依托单位：山东大学
批准年份：2001
结题年份：2002
起止时间：2002-01-01 - 2002-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：计峰,于新好,刘建强,郝晓涛,张庆坤
关键词：
表面活性剂微结构薄栅氧化膜
结项摘要
用我们研制的含表面活性剂的清洗液和清洗工艺清洗硅片。应用原子力显微镜和X射线光电悠椎确治鲅芯抗烫灞砻嫘蚊病⒈砻婧徒缑娴缱咏峁辜盎Ъ⑻逑档奈⒐劢峁褂牒旯畚锘匦灾涞亩杂叵怠Ｌ剿鞅砻婊钚约猎诠杵砻娴挠璐碇卸员≌iO2特性的影响，蠊婺＜傻缏饭ひ罩行∮?纳米的超薄栅氧化膜的制备提供必要的技术方法和理论依据。
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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