射频感性耦合等离子体中与容性耦合有关的问题研究

射频感性耦合等离子体（Inductively coupled plasma,ICP）是一种重要的等离子体。等离子体的脉冲运行具有诸多优点，而电负性气体在刻蚀、沉积等领域得到广泛应用。采用ICP源进行脉冲运行以及电负性气体放电时，分别存在与容性耦合相关的瞬时阻抗匹配、放电不稳定性等问题。本项目研究一种能量耦合效率高、电流驻波效应小、易于起始击穿的新型法拉第屏蔽系统，用于提高ICP源脉冲运行的瞬时匹配、控制电负性气体放电不稳定性，并研究其中相关的物理问题。项目研究可以获得新型法拉第屏蔽技术、高匹配性能脉冲ICP源技术、简单有效的抑制电负性气体ICP放电不稳定性的新技术。研究成果不仅可以用于等离子体刻蚀，还可以应用于对杂质污染、重复性要求高的光胶灰化、离子源技术、光电子薄膜、纳米薄膜沉积以及精细表面处理，并加深有关容性耦合对ICP放电基本过程的物理认识。