建立了化学沉淀法多晶硫化镉薄膜制备技术,研究了多晶硫化镉薄膜生长条件,得到了具有强的定向选择晶面的硫化镉薄膜。建立了在SnO2F和硫化镉衬底上电沉积磅化镉薄膜技术,得到了碲化镉薄膜最佳生长条件,沉淀的碲化镉薄膜晶粒紧密排列,解决了碲化镉与硫化镉紧密结合不剥落的难题。建立了密堆积升降法制备碲化镉多晶薄膜技术,在硫化镉衬底上得到111面择优的碲化镉薄膜。首次提出对水溶液沉淀的磁化镉薄膜进行氯化镉处理,研究了热处理及其微观结构和光电性质,经最佳条件热处理后,硫化镉晶粒长大,暗电率升至10(7)Ωcm。硫化镉致密度得到提高,对碲化镉出也进行了热处理,发现氯化镉处理后,薄膜不但导电类型得到改变,晶形晶粒也得到优化。
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数据更新时间:2023-05-31
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