溅射薄膜性能与溅射靶材之间非线性关系的研究

基本信息
批准号:59671005
项目类别:面上项目
资助金额:11.00
负责人:毛大立
学科分类:
依托单位:上海交通大学
批准年份:1996
结题年份:1999
起止时间:1997-01-01 - 1999-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:王家敏,陈建勤,张澜庭
关键词:
神经元网络靶材薄膜电阻
结项摘要

用反应溅射方法制备电阻薄膜,研究了溅射工艺参数对薄膜性能的影响;用差热扫描分析技术研究了热处理前后薄膜的晶态—非晶态转变对薄膜性能的影响。用人工神经元网络方法,把靶材成分、溅射及热处理工艺参数和薄膜的电阻值和电阻温度系数分别作为非线性系统的输入和输出,计算和训练了输入变量和输出变量间的网络,得到了较好的拟和曲线。将此方法来预测靶材成分及有关工艺参数。根据人工神经元网络方法的结果,进行合金成分设计,控制靶材的组织状态。用真空感应熔炼精密浇铸工艺,解决了大尺寸高硅含量脆性材料的熔炼和加工工艺,对电阻靶材的组成进行了分析。研制的各类型号和尺寸的靶材,在电阻工业生产上得到了实际应用。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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