高气压下介质阻挡放电沉积类金刚石膜及其机理研究

介质阻挡电沉积类金刚石膜是近几年开始研究的镀膜新方法，可实现低温下在多种基底上快速大面积沉积薄膜，该法耗能和投资费用低，具良好应用前景。本工作拟在较高气压下深入研究各种工艺参数对成膜性能的影响，优化成膜条件，制备高质量薄膜。对成膜等离子体进行分子束质谱和发射光谱诊断及理论模拟，提示成膜机理，为高气压成膜领域作出贡献。