纳米有序氧化物薄膜的制备与研究

基本信息
批准号:10574153
项目类别:面上项目
资助金额:34.00
负责人:郭沁林
学科分类:
依托单位:中国科学院物理研究所
批准年份:2005
结题年份:2008
起止时间:2006-01-01 - 2008-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:刘双,谢侃,郭东辉,郑客飞,宋俊涛,薛名山
关键词:
薄膜电子结构有序氧化物薄膜纳米薄膜
结项摘要

基于氧化物材料的应用范围极为广泛,涉及到磁学、超导、光学、磨擦与腐蚀、催化、传感器、电子器件等许多领域。随着新材料的不断发现,需要人们对许多氧化物及氧化物薄膜的物理和化学方面的性质,尤其与物性紧密相关的电子结构有更深入的了解。各种真空电子能谱仪是研究固体材料表面电子结构的有力工具,但由于大多数氧化物是电绝缘体,其表面荷电限制了这些仪器在研究中的实际应用。本项目拟在超高真空条件下用单晶金属做基底,制备厚度为0.5-10纳米的有序氧化镍和氧化锌薄膜,使入射电子可以穿透薄膜至金属基底,从而消除表面荷电。这样,就可以用各种表面电子能谱仪分析方法,对氧化物薄膜的组成、表面几何结构及薄膜的电子结构进行详细的原位研究。在此基础上,开展氧化物薄膜随厚度变化的物理和化学性质方面的测试工作,探索氧化物薄膜在不同厚度的一些特殊性质,为新材料的研制与开发提供有指导意义的基础研究数据。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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