157纳米高透过率氧化硅玻璃的制备

随着光刻精度的不断提高，光刻将使用157纳米波长的光源。本课题针对157纳米光刻中所用光刻模版的问题，提出可通过采用溶胶-凝胶技术制备块状氧化硅玻璃来实现。制备的块状凝胶玻璃可通过化学处理除水掺氟得到更短的紫外截止波长，在157纳米具有高的透过率，通过该项研究，有望为低成本制备大尺寸的具有157纳米高透过率的玻璃开辟一条新路。