Ⅳ族支撑团簇及其构成薄膜的结构和光电性质

基本信息
批准号:19574026
项目类别:面上项目
资助金额:9.00
负责人:王广厚
学科分类:
依托单位:南京大学
批准年份:1995
结题年份:1998
起止时间:1996-01-01 - 1998-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:韩民,马建行,焦洪震,朱以璋,刘峰奇,陈效双,王群,孙强,赵纪军
关键词:
Ⅳ族支撑团簇量子约束效应光电性质
结项摘要

首次用蒸发和惰性气体冷凝法制得直径约4纳米的Si团簇,嵌入多孔硅基体中,形成准自由团簇。激光拉曼谱发现,除了多孔硅的主峰外,首次观察到几个宽度很窄的低频峰,分别为27、37和195厘米。它们分别对应于球形自由硅团簇表面振动模SA(O)、SA(2)以及表面模与TA模的组合TA(L)+SA(1)。这些峰在多孔硅、单晶硅和非晶硅中均未出现过。成功地制备了Ge团簇构成致密的纳米膜,首次观察到大的带隙兰移(2.00eV)以及发射强的光致兰光和紫光。其多峰结构,除了Ge团簇芯中激子的量子约束效应外,在表面和界面的缺陷中心(Ge2O)存在单态和三态的辐射跃迁。为直接利用Ge团簇制备光电组合器件提供了可能的途径。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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