利用离子束诱发纳米空腔合成高性能发光材料的机理研究

本项研究尝试一种新颖的合成发光材料的方法-采用离子束诱发纳米空腔合成高性能发光膜，即利用惰性气体离子在固体材料中诱发纳米空腔的现象。采用高分辨电镜、XRD、PL光谱、红外光谱、可见-紫外光谱等分析手段，对空腔的产生、运动与规则排列等行为进行详细研究，在此基础上在诱发的空腔中引入稀土离子，并通过对引入的稀土离子的浓度、大小、分布和晶格排列的控制来合成高性能发光材料并进行发光机理的研究。.应用这种方法合成的SiO2、Al2O3、Y2O3 基发光膜与传统的方法制备发光膜相比，在制备可控性、高效性、特殊性能等诸多方面均具有明显优点。这种方法的应用，使发光材料具有更佳的性能，甚至使新的性能、功能的出现成为可能。