镍氧化物半导体材料结构与电极插层反应机理研究

基本信息
批准号:59672035
项目类别:面上项目
资助金额:10.00
负责人:史鹏飞
学科分类:
依托单位:哈尔滨工业大学
批准年份:1996
结题年份:1999
起止时间:1997-01-01 - 1999-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:解晶莹,罗诚元,王素琴,程新群,夏保佳,尹鸽平
关键词:
插层反应镍氧化物半导体结构
结项摘要

通过研究α-Ni(OH)2的精细结构,确定NiO2层间存在H2O及其他阴离子,加入代位原子Co、Al可制得稳定存在的α-Ni(OH)2,且电子转移数提高约30%,工作电压提高约70mV。锂镍氧化物具有与镍氢氧化物相似的层状结构,在LiNiO2中加入Co、Mn等代位原子亦可以显著改善电极性能。首次制备了氢氧化镍—石墨插层化合物,通过XRD、XPS测试确定合成的Ni(OH)2-GICs具有不同于氢氧化镍和碳材料的结构,其中镍原子的电子转移数可达2,Ni(OH)2-GICs的研究为提高镍电极的性能提供了新思路。采用交流阻抗法研究Ni(OH)2电极的电化学阻抗,并通过Mott-Schottky方程研究其半导体特性,探索半导体特性与电极结构及电化学性能的关系,该项研究有待深入。通过本研究共发表论文6篇。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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