半导体氧化物/石墨插层结构的光催化活性及其界面电子转移效应

基本信息
批准号:50672066
项目类别:面上项目
资助金额:29.00
负责人:贺蕴秋
学科分类:
依托单位:同济大学
批准年份:2006
结题年份:2009
起止时间:2007-01-01 - 2009-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:钱达兴,解庆红,王菁晶,卢少元,陈宁,周文明
关键词:
石墨电子隧穿效应半导体氧化物插层结构光催化性能
结项摘要

光激发氧化钛引起价带电子跃迁,通过受激电子和空穴的不同转移方式,纳米氧化钛可以获得特殊的光催化性能,降解有机无机污染物净化环境。光催化过程的量子效率取决于受激电子数量以及受激电子-空穴的复合率。本项目在研究氧化钛/石墨插层结构特征和光催化活性的基础上,研究氧化钛层纳米结构伴随的电子态变化对插层界面隧穿电子转移的影响。研究将比较不同能带结构半导体氧化物/石墨插层结构的光电性能、半导体氧化物插层界面的隧穿电子效应、不同波段光激发下隧穿电子转移的特征、以及特征光催化表征物在电子隧穿作用下的光催化降解过程,探索半导体氧化物/石墨插层界面结构和界面电子隧穿的条件和规律、半导体氧化物隧穿电子转移至石墨导电层对光激发电子-空穴复合禁阻的微观机理,以及不同插层结构光电化学过程的共同基础和各自特征。通过以氧化钛为主的半导体氧化物/石墨插层纳米结构和电子转移过程的研究,优化纳米材料的量子效率及光催化活性。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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