高质量氧化锡薄膜的制备及其发光性质的研究

采用MOCVD等方法制备氧化锡薄膜，研究制备条件、退火过程和衬底材料对薄膜结构的影响；研究薄膜生长的晶格适配问题，寻找合适的衬底材料，探索用MOCVD方法制备高质量氧化锡薄膜的最佳工艺条件；研究薄膜的发光性质及其与薄膜结构的关系；通过进行掺杂引入新的复合中心，研究掺杂薄膜的发光特性和及能带结构；研究氧化锡薄膜的发光机制，对氧化锡薄膜光发射给予理论上的解释。.蓝光发光二极管和蓝光及紫外光激光器在全色显示、白光照明以及光信息存储等领域有着极其广阔的应用前景。与氮化镓和氧化锌相比较，氧化锡材料不仅具有更宽的带隙（3.6eV）和更高的激子束缚能(130meV)，而且具有制备温度低和物理化学稳定性好等优点，是一种很有前途的紫外和蓝光材料。研究高质量氧化锡薄膜的制备和发光性质，弄清其发光机理，将为该材料在紫外光和蓝光器件上的应用奠定基础。因此，该项研究既具有重要的科学意义又具有良好的应用前景。