利用同步辐射单光子电离技术探测低温等离子体放电过程中CxFy自由基

将同步辐射真空紫外单光子电离技术和分子束质谱技术相结合，发展一种新的低温等离子体诊断方法,并系统地研究碳氟化合物等离子体放电过程中产生的碳氟自由基CxFy。实验主要测量放电过程中产生的各种产物(稳定的和不稳定的)，重点探测在等离子体刻蚀过程中起关键作用的碳氟类自由基CxFy及中间产物。通过光电离效率谱的测量，可以确定与质谱峰相对应的不同物种的结构；结合光电离截面的数据，可以得到在放电过程中自由基的绝对浓度。优化实验条件，以获得较高的碳氟自由基浓度。..结合理论计算，建立碳氟化合物等离子体放电反应动力学模型，探索详细的反应机理。这将为提高刻蚀工艺技术的质量和效率提供重要的理论指导和实践意义。