用化学法及等离子体法合成一系列具有大共轭结构的聚腈类高分子,而用等离了体法所得聚合物不仅分子量较高、易于成膜,而且具有较高的三阶非线性光学系数与较快的响应速度,因此,作为光开关、光调制、光计算等方面极具应用前景。用FTIR、UV、XDS、无素分析及STM等方法表征了它们的结构及膜形态,初步采用计算机模拟和量化计算,研究了其三阶非线性光学性能与单体偶极矩及平均聚合度关系。利用离子团束沉积法制备了对聚苯脲腈膜,它具有电学双稳态特性,经STM测定,相应的存储密度大,有望用于超高密度数据存储的信息材料,并用XDS法获得其单体结构参数,从而有利于从分子水平研究其固态性能。此外,还开展了聚合物光折变性能的研究。
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数据更新时间:2023-05-31
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