电孤离子镀(Ti,M〕N硬质薄膜与硬质梯度薄膜研究

基本信息
批准号:50071017
项目类别:面上项目
资助金额:17.00
负责人:林国强
学科分类:
依托单位:大连理工大学
批准年份:2000
结题年份:2003
起止时间:2001-01-01 - 2003-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:俞世吉,米水波,刘燕燕,郝胜智
关键词:
梯度薄膜电弧离子镀硬质薄膜
结项摘要

选择与Ti相邻的过渡金属Zr、Hf、Nb、Ta、Cr、Mo分别为合金化元素M,用电孤离子镀方法制取(TixM1-x)N薄膜与相应的梯度薄膜,系统地研究其元素周期律信息-结构-性能间的内在联系,形成TiN基硬质薄膜合金强化机制理论,建立新型(Ti,M)N硬质薄膜体系。为机加业实现进一步高速切削提供关键条件;为三元以上复合强化薄膜的研究奠定基础。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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