本项目首次采用以Au为掩蔽的反应离子刻蚀技术研制成功了零级衍射效率抑制到4%的均匀和变周期石英相位掩模版:用相位掩模技术研制出反射率近100%的均匀光纤光栅;首次在国内研制出带宽在1nm和12nm之间的一系列变周期光纤光栅色散补偿器,并对由锁模掺饵光纤输出的16ps短脉冲串经50km常规光传输后的色散展宽用变周期光纤光栅成功地进行了压缩。在对MCVD光纤制造工艺进行大量改进的基础上研制出1550nm处分别具有±2ps/km/nm和±4ps/km/nm色散值的两对色散互补光纤,两对色散互补光纤在1550nm处均具有接近于零的总连接色散及良好的色散平坦性。上述研究结果对已铺设光纤系统地顺利升级以及未来高速光纤通信系统的发展具有十分重要的意义。
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数据更新时间:2023-05-31
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