基于核磁共振成像的头部三维阻抗成像技术研究

基本信息
批准号:50577055
项目类别:面上项目
资助金额:26.00
负责人:朱善安
学科分类:
依托单位:浙江大学
批准年份:2005
结题年份:2008
起止时间:2006-01-01 - 2008-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:孟濬,万曙,高诺,李璟,李重视,刘君,姚远,张孝通
关键词:
核磁共振成像阻抗成像电流密度成像
结项摘要

新近发展的基于磁共振成像系统的阻抗成像技术-MREIT在提高阻抗分布图的精确度与空间分辨率方面有着显著的优势,但其最大的弱点是成像物体在MRI系统内的三维旋转问题。本研究提出的仅利用单方向磁感应强度测量值对物体内电导率分布进行三维重建的算法,利用MRI图像构建物体三维模型,利用电流密度成像技术测量由外加注入电流引起的单方向磁感应强度分布,利用径向基函数网络与单纯形法建立物体电导率分布与磁感应强度分布之间的函数关系并对其进行优化,得到最接近真实电导率分布的估计值。该方法能有效地解决MREIT的旋转问题,属原创性研究。此外,该方法仅需一个注入电流源,不需要边界电极电压测量值,具有设备简单、测量精度高、抗噪能力强等特点。初步头模型仿真实验结果证明了该方法的有效性,其部分结果已被国际杂志录用。本项目首次利用上述原创性方法对头部三维电导率分布进行估计,是新方法在新领域的重要尝试。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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