纳米尺度图形的制备是纳米特征尺寸集成电路及器件研制的基础和关键。新型电子束抗蚀剂Calixarene具有非常好的应用前景,在纳米尺度图形加工中将发挥积极作用。然而目前国际上关于Calixarene在电子束光刻及刻蚀技术中的理论与实验研究尚不多见,国内尚未见有使用的报导。本课题将在深入研究Calixarene的物理与化学性能、弄清电子束与其相互作用机理的基础上,建立适用于纳米尺度电子束光刻的电子散射
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数据更新时间:2023-05-31
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