金属—半导体—金属铟镓砷光电探测器,具有平面结构,高速的优点。但是由于铟镓砷上金属电极肖特基势垒高度过低使暗电流大,影响放大器性能。本课题从器件物理出发提出了创新设计:在铟镓砷层上形成晶格匹配双重热垒增强层,即在U:InP势垒增强层上再长一层浓度为1×10(18)cm(-3),厚15nm的P型InP,可形成比单一U:InP层更高的有效势垒,电流按e-△φ/NT比例下降,△φ为有效势垒装增量,实验研究表明这一设计的正确性,测得新结构的器件暗电流最低为4.7nA平均为10nA左右,比我们单U:InP势垒增强层的器件暗电流(55nA)大为下降,达到国际上同期报导的最低水平,此创新设计方法,已获我国国家发明专利。
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数据更新时间:2023-05-31
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