磷化铟上淀积氮化硅技术及其界面特性研究
基本信息
批准号：69076413
项目类别：面上项目
资助金额：3.00
负责人：华庆恒
学科分类：
依托单位：信息产业部电子第四十六研究所
批准年份：1990
结题年份：1992
起止时间：1991-01-01 - 1992-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：孙同年,曾庆明,綦素琴,严如岳,杨克武,徐永强,赵有文,刘咏梅
关键词：
氮化硅等离子增强化学气相淀积界面
结项摘要
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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发表时间：2021
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