纳米光栅掩模提高分辨力的原理和方法研究
基本信息
批准号：60606012
项目类别：青年科学基金项目
资助金额：8.00
负责人：余国彬
学科分类：
依托单位：中国科学院光电技术研究所
批准年份：2006
结题年份：2007
起止时间：2007-01-01 - 2007-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：严佩英,严伟,杨勇,马平,佟军民,胡翔宇
关键词：
分辨力光学光刻偏振控制纳米光栅掩模
结项摘要
本项目提出了一种基于纳米光栅偏振掩模和纳米光栅偏振相移掩模的分辨力增强新技术。拟运用理论分析、计算机仿真和对比光刻实验等方法研究纳米光栅掩模分辨力增强的机理。采用严格的耦合波计算理论，建立纳米光栅偏振掩模和纳米光栅偏振相移掩模的逆向设计方法，并设计出相应的光刻掩模；分析掩模的材料、掩模的三维形貌、特征尺寸的形状、吸收层的材料和厚度对各个衍射级的偏振性、衍射效率、光强分布的调制情况；研究纳米光栅偏振
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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