面向长时间高温封接的真空平板玻璃LOW-E膜失效机理及其对玻璃表面应力分布的影响研究

基本信息
批准号:51172199
项目类别:面上项目
资助金额:59.00
负责人:张瑞宏
学科分类:
依托单位:扬州大学
批准年份:2011
结题年份:2015
起止时间:2012-01-01 - 2015-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:陈荣发,顾玲,郭魂,高晓宏,赵映,季伟
关键词:
真空平板玻璃耐久性应力镀膜
结项摘要

真空平板玻璃的长时间高温(一般达500℃)封接会引起真空腔内LOW-E膜失效。同时LOW-E膜材料在长时间高温条件下会对影响镀膜与玻璃之间的结合性能,这对玻璃的表面应力分布会产生影响,从而对真空平板玻璃的耐久性产生不利的影响。本课题利用有限元方法建立支撑应力、封边残余应力与玻璃表面残余应力场的分布;分析不同Low-E膜材料、不同镀膜工艺对高温封接后玻璃表面应力的影响;研究不同Low-E膜在高温封接过程中的失效形式。以优化镀膜材料配方与工艺为目标,研究Low-E膜组分、厚度、密度、微结构及玻璃基材表面残留物、表面粗糙度等对镀膜与玻璃之间结合界面离子渗透、LOW-E膜红外反射率与可见光透过率的影响,探讨理想镀膜与玻璃界面的情况,创立一种检测LOW-E膜与玻璃之间结合力及对玻璃表面应力影响的实验新方法,为镀膜真空平板玻璃的耐久性分析提供依据。

项目摘要

真空平板玻璃的长时间高温封接是影响真空腔内镀膜失效的关键性因素,同时镀膜对真空平板玻璃的耐久性产生不利的影响。本课题利用有限元方法建立支撑应力、封边残余应力与玻璃表面残余应力场的分布,分析不同镀膜材料、不同镀膜工艺对玻璃表面应力的影响;研究不同镀膜在封接过程中的失效形式,以优化镀膜材料配方与工艺的为目标,研究镀膜厚度、密度、微结构及玻璃基材表面残留物、表面粗糙度等对薄膜与玻璃之间结合界面、镀膜红外反射率与可见光透过率的影响,研究在热冲击下镀膜裂纹在界面端处萌生与沿界面扩展的临界条件,揭示裂纹自界面端萌生与沿界面扩展的断裂准则之间的内在联系,探讨理想镀膜中弱界面的情况,创立一种检测镀膜与玻璃之间结合力的实验新方法,为镀膜真空平板玻璃的耐久性分析提供实验依据。

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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