大注入条件下高发光效率GaN基LED有源区结构研究

基本信息
批准号:60876063
项目类别:面上项目
资助金额:42.00
负责人:陈志忠
学科分类:
依托单位:北京大学
批准年份:2008
结题年份:2011
起止时间:2009-01-01 - 2011-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:裴谐弟,潘尧波,齐胜利,刘鹏,田鹏飞,阎和平,杨海艳,孙永健,方浩
关键词:
有源区发光二极管大注入InGaN量子效率
结项摘要

大注入条件下高发光效率GaN基LED对通用照明的应用具有巨大的价值,它不但方便二次光学设计,而且还将显著降低光源制作成本和使用成本。但是在目前常用的技术水平下,大注入条件下LED发光效率显著下降,主要原因是大注入下有源区中俄歇复合和注入效率变差。本项目的研究目的是得到至少一种大注入下高效发光的LED结构,同时基于该结构对载流子注入、复合机制进行研究,发展大注入条件下的器件物理。本项目的主要研究内容包括:(1)电子阻挡层和电子驻留层结构的研究;(2)双异质结构LED的研究;(3)AlInGaN/InGaN多量子阱LED研究。通过研究解决载流子的高效率注入,应力可控的高质量InGaN有源区生长,AlInGaN垒层的结构对InGaN复合机制的影响等问题,从而解决半导体照明的关键技术和理论问题。课题申请人及其课题组近年来一直致力于半导体照明的研究,取得了富有特色的研究成果,积累了大量的经验。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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